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- 000 02276nam0 2200337 450
- 010 __ |a 978-7-122-41908-8 |b 精装 |d CNY298.00
- 100 __ |a 20221224d2022 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 表面去污技术及应用 |A biao mian qu wu ji shu ji ying yong |f (美) 雷吉维·科里, 卡什米里·拉尔·米塔尔主编 |d = Developments in surface contamination and cleaning Vol.11 applications of cleaning techniques |f Rajiv Kohli, K. L. Mittal |g 李战国等译 |z eng
- 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2022
- 215 __ |a 573, [8] 页图版 |c 图 (部分彩图)页 |d 27cm
- 306 __ |a 本版由ELSEVIERINC. 授权化学工业出版社有限公司在中国大陆地区 (不包括香港、澳门以及台湾地区) 出版发行
- 314 __ |a 本书翻译: 李战国, 李健, 王毅, 韩梦薇, 赵华等
- 314 __ |a 雷吉维·科里, 博士, 是约榆逊航天中心航空航天公司在污染物颗粒行为、表面去污和污染物控制领域的首席专家。卡什米里·拉尔·米塔尔, 博士1972-1994年在IBM工作。目前他在表面污染与去污及黏附科学与技术领域从事教学和咨询工作。他是2013年创刊的《黏合和胶黏剂综述》 (Reviews of Adhesion and Adhesives) 期刊的创始编辑。
- 330 __ |a 本书详细阐述了超声、可剥离涂层、二氧化碳雪、固体二氧化碳 (干冰)、液体二氧化碳、超临界二氧化碳、激光、等离子体、紫外-臭氧、静电、高速冲击空气射流、微磨、微生物、离子液体、干蒸汽等一系列表面去污技术原理、工艺参数及其影响因素、应用案例、成本效益和优缺点等, 是对近年来表面去污技术最新进展的全面而系统的总结。这些去污技术不仅在传统工业清洗领域有广泛的应用, 在半导体晶片和集成电路、精密仪器设备、核工业放射性表面污染、食品加工、医疗等特殊领域也有着良好的应用前景。
- 333 __ |a 本书对从事表面去污材料与技术研究的科技人员和相关工程技术人员有很好的参考价值
- 500 10 |a Developments in surface contamination and cleaning Vol.11 : applications of cleaning techniques |A Developments In Surface Contamination And Cleaning Vol.11 : Applications Of Cleaning Techniques |m Chinese
- 606 0_ |a 金属表面清理 |A jin shu biao mian qing li
- 701 _1 |a 科里 |A ke li |g (Kohli, Rajiv) |4 主编
- 701 _1 |a 米塔尔 |A mi ta er |g (Mittal, K. L.) |4 主编
- 702 _0 |a 李战国 |A li zhan guo |4 译
- 702 _0 |a 李健 |A li jian |4 译
- 801 _0 |a CN |b SXDTDX |c 20231011
- 905 __ |a SXDTDX |d TG176/3