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题名/责任者:

再见, 牛津与剑桥/胡绍学著

出版发行项:

北京:北京联合出版公司,2017

ISBN及定价:

978-7-5502-9865-1/CNY68.00

载体形态项:

319页:图 (部分彩图), 肖像;23cm

丛编项:

建筑与文化随笔集;1

个人责任者:

胡绍学, 1936- 著

学科主题:

随笔-中国-当代-作品集

中图法分类号:

I267.1

责任者附注:

胡绍学, 1936年出生于浙江杭州, 清华大学建筑学院教授、清华大学建筑设计研究院有限公司顾问总建筑师。

提要文摘附注:

本书作者在20世纪80、90年代赴英美等国家进修, 牛津、剑桥是他所有旅程和记忆的起点。与它们再见, 是希望再经历一次记忆中的美好。作者已过耄耋之年, 他在这本书里以一个普通人、一个旅行者的身份, 来记载和描述他在求学之路中看到的建筑、碰到的事情和遇见的人, 还有那些沉淀在城市里的历史与文明。

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