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题名/责任者:

薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术/陈吉堃著

出版发行项:

北京:科学出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-03-069915-2/CNY78.00

载体形态项:

148页:图;24cm

并列正题名:

Plasma technique and analysis in thin film vacuum depositions

个人责任者:

陈吉堃 著

学科主题:

低温-等离子体-研究

中图法分类号:

O536

责任者附注:

北京科技大学

提要文摘附注:

本书介绍低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控测射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜沉积条件和性能之间的基础关系，有助于从理论角度为薄膜沉积条件的设计与动力学过程优化提供依据。本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法。

使用对象附注:

本书适用于从事薄膜真空沉积、等离子体技术等方向研究或工作的科研人员、工程技术人员

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