MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：3
- 题名/责任者:
- 表面去污技术及应用/(美) 雷吉维·科里, 卡什米里·拉尔·米塔尔主编 李战国等译
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2022
- ISBN及定价:
- 978-7-122-41908-8 精装/CNY298.00
- 载体形态项:
- 573, [8] 页图版:图 (部分彩图)页;27cm
- 统一题名:
- Developments in surface contamination and cleaning Vol.11 : applications of cleaning techniques
- 个人责任者:
- 科里 (Kohli, Rajiv) 主编
- 个人责任者:
- 米塔尔 (Mittal, K. L.) 主编
- 个人次要责任者:
- 李战国 译
- 个人次要责任者:
- 李健 译
- 学科主题:
- 金属表面清理
- 中图法分类号:
- TG176
- 出版发行附注:
- 本版由ELSEVIERINC. 授权化学工业出版社有限公司在中国大陆地区 (不包括香港、澳门以及台湾地区) 出版发行
- 责任者附注:
- 本书翻译: 李战国, 李健, 王毅, 韩梦薇, 赵华等
- 责任者附注:
- 雷吉维·科里, 博士, 是约榆逊航天中心航空航天公司在污染物颗粒行为、表面去污和污染物控制领域的首席专家。卡什米里·拉尔·米塔尔, 博士1972-1994年在IBM工作。目前他在表面污染与去污及黏附科学与技术领域从事教学和咨询工作。他是2013年创刊的《黏合和胶黏剂综述》 (Reviews of Adhesion and Adhesives) 期刊的创始编辑。
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书详细阐述了超声、可剥离涂层、二氧化碳雪、固体二氧化碳 (干冰)、液体二氧化碳、超临界二氧化碳、激光、等离子体、紫外-臭氧、静电、高速冲击空气射流、微磨、微生物、离子液体、干蒸汽等一系列表面去污技术原理、工艺参数及其影响因素、应用案例、成本效益和优缺点等, 是对近年来表面去污技术最新进展的全面而系统的总结。这些去污技术不仅在传统工业清洗领域有广泛的应用, 在半导体晶片和集成电路、精密仪器设备、核工业放射性表面污染、食品加工、医疗等特殊领域也有着良好的应用前景。
- 使用对象附注:
- 本书对从事表面去污材料与技术研究的科技人员和相关工程技术人员有很好的参考价值
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库本
库350026